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硅碳CVD
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硅碳CVD、、、乙炔包覆回转炉

专业用于硅碳负极CVD气相沉积工艺。

选件::
产品特点

1、、、烧结周期短::动态烧结方式,,热传导速度快,,大大缩短烧结周期,,相对能耗优于其他炉型;

2、、、物料品质均匀::物料在炉内的活动状态为动态的前进和翻转,,受热均匀,,确保了物料充分烧结,,物料品质一致性好;

3、、、单机产能可扩产::较大单机产能,,且易于实现规模放大,,单台设备产能可达5-200kg/批,,且有实现陆续化出产的可能;

4、、、安全系数高::炉内微正压,,排气结构单一,,可有效泄压,,安全机能相对较高。

 

产品详情
额定温度 控温精度 烧结空气 出产方式 单次处置量
600℃ ±1℃ 氮气,硅烷,乙炔 间歇式、、、陆续式 5-200kg/批
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